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造型影响，光线射入不同区域的角度各不相同，最后搞到曝光区域光强东一块西一块，完全不均匀。 光照一失衡，光刻线路图案就跟着变形，有的地方曝光不足，图案缺胳膊少腿，芯片精密加工质量直接被拖下水。 另外，光学像差这东西也没法彻底清干净，即便整体成像效果好了很多，球差、彗差、像散那些基础缺陷依然阴魂不散。 残留的光学偏差对微细线路蚀刻精度的影响不容小觑，芯片最后出来的成像品质和综合性能，都要被咬上一口。 抛物面透镜研发那阵子，技术人员必须在光源类型和光线入射角度这两个核心参数上死死盯着。 只要一换光源，或者光线入射角稍微一动，透镜整体结构参数就得推倒重来。 这一条不光前期研发费劲，后期设备调试花的时间成本和金钱成本，...